(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210786494.5 (22)申请日 2022.07.04 (71)申请人 OPPO广东移动通信有限公司 地址 523860 广东省东莞 市长安镇乌沙海 滨路18号 (72)发明人 卢湘武　赵荣琦　 (74)专利代理 机构 北京知帆远景知识产权代理 有限公司 1 1890 专利代理师 徐静 (51)Int.Cl. H05K 5/02(2006.01) B32B 17/10(2006.01) B32B 33/00(2006.01) B32B 27/36(2006.01) B32B 27/40(2006.01)B32B 7/12(2006.01) B32B 27/06(2006.01) B32B 27/00(2006.01) B32B 15/09(2006.01) B32B 15/095(2006.01) B32B 9/00(2006.01) B32B 9/04(2006.01) (54)发明名称 壳体组件及其制备方法和电子设备 (57)摘要 本申请提供了壳体组件及其制备方法和电 子设备。 该壳体组件包括： 基材； UV纹理层， UV纹 理层设置在基材的一侧； 光学镀膜层， 光学镀膜 层设置在UV纹理层远离基材的表面上， 光学镀膜 层包括至少一层第一子镀膜层和至少一层第二 子镀膜层， 第一子镀膜层和第二子镀膜层交替设 置， 第一子镀膜层的折射率小于第二子镀膜层的 折射率， 且第二子镀膜层的折射率大于等于3.0。 通过设置较高折射率的第二子镀膜层， 在可以实 现高亮度的同时， 还可以大大减小第二子镀膜层 的厚度， 从而将光学镀膜层的整体厚度减薄， 避 免了因厚度过 厚而导致的膜层开裂的问题， 提高 产品良率， 而且在工艺上缩短镀膜的时间， 提高 了设备的利用率， 降低了生产成本 。 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 CN 115209656 A 2022.10.18 CN 115209656 A 1.一种壳体组件， 其特 征在于， 包括： 基材； UV纹理层， 所述UV纹 理层设置在所述基材的一侧； 光学镀膜层， 所述光学镀膜层设置在所述UV纹理层远离所述基材的表面上， 所述光学 镀膜层包括至少一层第一子镀膜层和至少一层第二子镀膜层， 所述第一子镀膜层和所述第 二子镀膜层交替设置， 所述第一子镀膜层的折射率小于所述第二子镀膜层的折射率， 且所 述第二子 镀膜层的折 射率大于等于 3.0。 2.根据权利要求1所述的壳体组件， 其特征在于， 所述第 一子镀膜层的折射率小于等于 2.0， 所述第二子 镀膜层的折 射率大于等于4.0 。 3.根据权利要求1所述的壳体组件， 其特征在于， 所述第 二子镀膜层的材料为非晶硅或 含非晶硅混合物， 其中， 所述含非晶硅混合物中的硅含量大于等于70％。 4.根据权利要求3所述的壳体组件， 其特征在于， 所述含非晶硅混合物为Si ‑C、 Si‑Ge、 Si‑Al、 Si‑Zr和Si‑Nb中的至少一种。 5.根据权利要求1所述的壳体组件， 其特征在于， 所述第一子镀膜层的材料为二氧化 硅、 二氧化锆、 氧化铝和氟化镁中的至少一种。 6.根据权利要求1所述的壳体组件， 其特征在于， 所述光学镀膜层的总厚度小于等于 800nm， 所述壳体组件的外表面的亮度L 值大于等于80 。 7.根据权利要求6所述的壳体组件， 其特征在于， 所述光学镀膜层的总厚度小于等于 500nm， 所述壳体组件的外表面的亮度L 值大于等于90 。 8.根据权利要求1～7中任一项所述的壳体组件， 其特征在于， 所述第一子镀膜层和所 述第二子 镀膜层的总层数为2 ～9层； 所述基材与一层所述第一子 镀膜层邻接 。 9.根据权利要求8所述的壳体组件， 其特征在于， 所述光学镀膜层包括 四层所述第 一子 镀膜层和四层所述第二子镀膜层， 所述第二子镀膜层的材料为非晶硅， 所述第一子镀膜层 的材料为二氧化硅， 其中， 在远离所述基材的方向上， 四层所述第一子镀膜层的厚度分别为 5nm～15n m、 50nm～100nm、 50nm～100nm和50n m～100nm， 四层所述第二子镀膜层的厚度分别 为10nm～ 20nm、 20nm～80nm、 3 0nm～60nm和5nm～15nm。 10.根据权利要求1～7中任一项所述的壳体组件， 其特征在于， 还包括膜片和盖底油膜 层， 所述膜片位于所述UV纹理层与所述基材之间， 所述膜片与所述基材通过OCA 光学胶贴合 设置， 所述盖底油膜层设置在所述 光学镀膜层远离所述基材的一侧。 11.一种制备壳体组件的方法， 其特 征在于， 包括： 提供基材； 在所述基材的一侧形成UV纹 理层； 在所述UV 纹理层远离所述基材的表面上溅射沉积光学镀膜层， 所述光学镀膜层包括至 少一层第一子镀膜层和至少一层第二子镀膜层， 所述第一子镀膜层和所述第二子镀膜层交 替形成， 所述第一子镀膜层的折射率小于所述第二子镀膜层的折射率， 且所述第二子镀膜 层的折射率大于等于 3.0。 12.根据权利要求11所述的方法， 其特征在于， 形成所述第 二子镀膜层的材料为非晶硅 或含非晶硅 混合物， 所述含非晶硅 混合物中的硅含量大于等于70％， 其中， 在溅射沉积所述 第二子镀膜层时， 往溅射装置中充入 还原性气体或惰性气体。权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115209656 A 213.根据权利要求11所述的方法， 其特征在于， 形成所述第 一子镀膜层的材料为二氧化 硅、 二氧化锆、 氧化铝和氟化镁中的至少一种， 其中， 在溅射沉积所述第一子镀膜层时， 往溅 射装置中充入氧气。 14.根据权利要求11所述的方法， 其特征在于， 所述基材与一层所述第一子镀膜层邻 接， 所述光学镀膜层的总厚度小于等于 500nm。 15.一种电子设备， 其特 征在于， 包括： 权利要求1～10所述的壳体组件； 显示屏组件， 所述显示屏组件与所述壳体组件相连， 且所述显示屏组件和所述壳体组 件之间限定出安装空间； 以及 主板， 所述主板设置在所述 安装空间内且与所述显示屏组件电连接 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115209656 A 3