(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210440394.7 (22)申请日 2022.04.25 (30)优先权数据 17/308,308 2021.0 5.05 US (71)申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 地址 中国台湾新竹科 学工业园区新竹市力 行六路八号 (72)发明人 柯定贤　温志伟　林重宏　 (74)专利代理 机构 南京正联知识产权代理有限 公司 32243 专利代理师 王素琴 (51)Int.Cl. B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 用于清洁光掩 模的表面的清洁设备 (57)摘要 本发明实施例提供一种用 于清洁光掩模的 表面的清洁设备， 包含： 壳体， 界定腔室； 光掩模 固持器， 安置于腔室内； 以及气体分配器， 安置于 腔室内以朝向光掩模固持器引导气体。 气体分配 器具有两个或大于两个气体分配出口。 驱动器耦 合到光掩模固持器或气体分配器中的至少一个 以在光掩模固持器与气体分配器之间建立相对 移动。 权利要求书2页 说明书11页 附图8页 CN 114951139 A 2022.08.30 CN 114951139 A 1.一种用于清洁光掩 模的表面的清洁设备， 包括： 壳体， 界定腔室； 光掩模固持器， 安置 于所述腔室内； 气体分配器， 安置于所述腔室内以朝向所述光掩模固持器引导气体且包括两个或大于 两个气体分配出口； 以及 驱动器， 耦合到所述光掩模固持器或所述气体分配器中的至少一个以在所述光掩模固 持器与所述气体分配 器之间建立相对移动。 2.根据权利要求1所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备， 其中所述两个或大于两 个气体分配出口中的气体分配出口包括界定气体分配导管的第一表面和第二表面。 3.根据权利要求2所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备， 其中气刀从所述气体分 配导管突出。 4.根据权利要求2所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备， 其中所述第一表面相对 于所述光掩模固持器的顶 表面的角度在3 0度到60度的范围内。 5.根据权利要求2所述的用于清洁光掩 模的表面的清洁设备， 其中： 所述第一表面相对于所述 光掩模固持器的顶 表面的角度大于 30度， 以及 所述第二表面相对于所述 光掩模固持器的所述顶 表面的角度小于 60度。 6.根据权利要求1所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备， 其中从所述两个或大于 两个气体分配出口中的气体分配出口分配的气体的速度为在10米/秒到20米/秒的范围内 的速度。 7.一种用于清洁光掩 模的表面的清洁设备， 包括： 壳体， 界定腔室； 光掩模固持器， 安置 于所述腔室内； 真空， 安置于所述腔室内以相对于所述光掩模固持器建立真空， 其中所述真空包括界 定两个或大于 两个真空孔隙的表面； 以及 驱动器， 耦合到所述光掩模固持器或所述真空中的至少一个以在所述光掩模固持器与 所述真空之间建立相对移动。 8.根据权利要求7 所述的用于清洁光掩 模的表面的清洁设备， 其中： 所述两个或大于两个真空孔隙中的第一真空孔隙与所述两个或大于两个真空孔隙中 的第二真空孔隙分开第一距离， 所述两个或大于两个真空孔隙中的第三真空孔隙与所述两个或大于两个真空孔隙中 的第四真空孔隙分开第二距离， 以及 所述第一距离等于所述第二距离 。 9.根据权利要求7所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备， 其中所述两个或大于两 个真空孔隙中的第一真空孔隙与所述两个或大于两个真空孔隙中的第二真空孔隙之间的 距离在3毫米到8毫米的范围内。 10.一种用于清洁光掩 模的表面的清洁设备， 包括： 壳体， 界定腔室； 光掩模固持器， 安置 于所述腔室内； 气体分配 器， 安置于所述腔室内以朝向所述 光掩模固持器引导气刀； 以及权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114951139 A 2真空， 安置 于所述腔室内以相对于所述 光掩模固持器建立真空， 其中 所述真空包括两个或大于 两个真空孔隙， 所述气体分配 器包括两个或大于 两个气体分配出口， 以及 所述两个或大于两个气体分配出口中的气体分配出口的第一中心线与所述两个或大 于两个真空孔隙中的第一真空孔隙和所述两个或大于两个真空孔隙中的第二真空孔隙之 间的区域对准。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114951139 A 3